线宽

光刻胶的边缘粗糙度LER是什么?

当光刻工艺推进到纳米尺寸,#热问计划#光刻胶的边缘粗糙度(LER)则成为了必须要考虑的因素。这些从外观上几乎检测不到的光刻胶边缘起伏,对芯片性能会产生多大的影响?如何量化边缘粗糙度的?又是如何降低边缘粗糙度呢?

掩膜 线宽 光刻胶 rms ler 2025-09-18 02:01  5